現貨供應 140CFI00800法國模塊

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目前中國大陸的芯片和光刻機的制造能力，要比世界先進水平落后一大截，不是一時半會就能夠追上的。以直接的芯片制造工藝來說，目前國際先進的臺積電已經能夠量產5nm制程的芯片，而大陸先進的中芯國際只能量產14nm制程的芯片，中間差了3代的差距。

盡管華為很早就意識到自研芯片的重要性，斥巨資成立海思半導體芯片研發部門，經過多年潛心研發，其5nm海思麒麟系列芯片可謂達到水平。但是，再強大的芯片無法被量產出來，也是紙上談兵。如今關于光刻機相關專利的出爐，華為是否能一舉扭轉被卡脖子的困境呢？

國內光刻機水平發展到哪一步了？

全球之所以僅有荷蘭ASML一家企業能生產出EUV光刻機，而我國迄今為止一臺EUV光刻機也造不出來，原因就在于EUV光刻機的制造工藝極其復雜。據悉，EUV光刻機集合了全球多個科技強國的技術與硬件，由多家巨頭公司合力研發，光零部件就有10萬個左右，一年也就只能生產十幾臺。

圖源：ASML官網

同時需要認清的是，高端光刻機的研發制造是一個需要長期投入的事情。事實上，這并不是華為次申請與光刻機相關的專利了。早在2016年，未雨綢繆的華為就躬身入局自研光刻機，并在國家知識產權局上公布了“一種光刻設備和光刻系統”的專利項目，從那時開始，華為已經開始著手光刻機產業的研發。

EUV光刻機制造涉及產業鏈非常多，涉及精密光學、精密運動、高精度環境控制等多項先進技術。華為也并非“孤軍作戰”，國內光刻機研發產業鏈條已經初具模型，也有不少相關廠商在EUV光刻機領域取得了階段性突破。

圖片 在光刻機產業鏈上游，有做光源系統的科益虹源，還有做物鏡系統的國望光學，做曝光光學系統的國科精密，做雙工作臺的華卓精科，做浸沒系統的啟爾機電。此外，還有一批做光刻配套設備設施的科技公司，例如光刻膠、光刻氣體、光掩膜版、光刻機缺陷檢測設備、涂膠顯影設備等。

圖片 在光刻機產業鏈中游，整機生產方面，上海微電子是目前國內技術的設備廠商。據悉，上海微電子也于今年正式通過了28nm光刻機的技術檢測和認證，并快將于2023年向國內芯片制造企業交付28nm光刻機等。

圖片 在光刻機產業鏈下游，中芯國際是中國大陸技術先進、規模大、配套服務完善的晶圓代工廠企業，可以提供0.35微米至14nm多種技術節點、不同工藝平臺的集成電路晶圓代工及配套服務。

所以，造出高端光刻機并非幾家巨頭的事情，而是需要更多的科研工作者的投入，需要成千上萬的廠家提供零件和技術支撐。對于光刻機技術的突破或許只是時間早晚問題，更重要的是國內需要有華為這樣的領頭羊企業聯合起來共同打破技術壁壘，帶動整個產業鏈的進步。

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