數控機械設備1734-OE2V抗干擾能力強

數控機械設備1734-OE2V抗干擾能力強

數控機械設備1734-OE2V抗干擾能力強

　粉末ALD設備

　　應用領域：鋰電池粉末或極片，金屬粉末，熒光粉粉末等粉體包覆。

　　目前已有設備：GM系列百克級粉末ALD系統、KG系列公斤級粉末ALD系統，即將推出噸級粉末ALD系統

如圖：GM克級粉末ALD系統

　　Cbatch系列ALD

　　連續通過式多腔體結構，全自動化傳輸，主要用于大批量生產，現已用于LED行業。

超高真空設備

產品：QBT-J(四腔電子束蒸發系統)\QBT-P(兩腔濺射系統)\QBT-4(兩腔熱蒸發系統)\QBT-A(等離子體增強ALD系統)

如圖：QBT-J全自動四腔超高真空雙傾角鍍膜系統

如圖：普發真空HiPace 2300渦輪分子泵用于超高真空系統

普發真空提供一站式真空解決方案，助力廈門韞茂實現產品功能

　　HiScroll渦旋泵

　　靜音、高效、無油

　　A4系列整體式干泵

　　高能效，溫度控制范圍廣，耐腐蝕材料工藝泵，智能監控系統

　　HiPace系列渦輪分子泵

　　高壓縮比，抽速高，安全穩定，體積小巧

　   PKR 361全量程真空計

　　測量范圍廣，極低的外部磁場，試用范圍廣

　　韞茂科技總經理趙茂生先生表示道：“材料科技的進步推動著科研、創新和生產。面對日益提升的性能需求，微觀層面的技術顯得愈發重要，甚至有可能幫助突破傳統技術的瓶頸。真空技術所保障的純凈環境對微觀精密作業是不可或缺的。我們很高興能與普發真空保持合作，以其**豐富的真空設備來幫助我們的產品實現更加優異的性能，進而為更多科研機構和院校，以及下游產業等單位服務，助其攻克更多高精尖技術，提升產品性能，惠及更多用戶。我們更期待藉此實現革命性的突破，終造福全人類。希望普發真空能為我們帶來更多的產品和技術，與我們攜手前行。”

數控機械設備1734-OE2V抗干擾能力強